Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) là một hợp chất amoniac tứ chức (Quat) được SACHEM sản xuất với chất lượng cao nhất trên toàn thế giới. TMAH được sử dụng trong quá trình sản xuất vi mạch tích hợp, màn hình phẳng, mạch in, điện cực, cảm biến và nhiều thành phần điện tử khác. Công thức phân tử của TMAH là N(CH₃)₄⁺ OH⁻ và thông thường được sản xuất dưới dạng dung dịch nước, trong methanol hoặc propelyne glycol. SACHEM là một trong những nhà cung cấp tetramethylammonium hydroxide lâu đời nhất trên thế giới.
Đặc điểm nổi bật của Tetramethylammonium Hydroxide:
- Chất lượng sản phẩm đồng đều và ổn định
- Không chứa kim loại
- Không để lại chất cặn khi hâm nóng
- Chứa mức độ ô nhiễm cực thấp
- Có nhiều loại phù hợp với từng ứng dụng cụ thể
- Tuỳ chỉnh thông số kỹ thuật để đáp ứng yêu cầu đặc biệt của khách hàng
- Đáng tin cậy cho sản xuất hàng loạt lớn
Các ứng dụng của TMAH:
- Công nghệ gốm tiên tiến
- Điện phân
- Chất xúc tác
- Chất xúc tác trans-esterification
- Chất phát triển photoresist
- Thành phần cho quá trình etsilic và litography mịn màng
- Chất cơ bản mạnh
- Thành phần làm sạch wafer
- Chất tẩy hóa chất trong sản xuất bán dẫn
- Chất điều chỉnh cấu trúc cho tổng hợp zeolite
Các thị trường sử dụng TMAH:
- Các nhựa polymer
- Công nghệ bán dẫn
- Zeolite
- Mạch in
- Lưu trữ năng lượng
- Lĩnh vực dầu khí
Chúng tôi cam kết bảo đảm việc vận chuyển sản phẩm an toàn. Để biết thêm thông tin về cách sử dụng sản phẩm này một cách an toàn, vui lòng truy cập trang dịch vụ an toàn TMAH của chúng tôi: Chung cư Viglacera Đại Phúc
Bạn đang xem: Tetramethylammonium Hydroxide (TMAH) – High-Quality Quaternary Ammonium Compound for Electronics Manufacturing
Hình ảnh sản phẩm
Chiến lược thu hồi và tái chế TMAH
SACHEM đã phát triển một hệ thống thu hồi và tái chế TMAH hoàn toàn đóng để giúp việc xử lý TMAH an toàn bằng cách giới hạn tiếp xúc.
Ứng dụng công nghiệp
Một trong những ứng dụng công nghiệp của TMAH là etsilic không đồng hướng của silic. Nó được sử dụng như một dung môi cơ bản trong quá trình phát triển photoresist có tính axit trong quá trình photolithography và rất hiệu quả trong việc tẩy photoresist. TMAH có một số tính chất chất xúc tác chuyển pha và được sử dụng như một chất phụ gia bề mặt trong quá trình tổng hợp ferrofluid, để ngăn chặn quá trình kết tụ hạt nano.
Xem thêm : Vinmart Đà Lạt – Địa điểm mua sắm đáng tin cậy tại thành phố ngàn hoa
TMAH là chất cơ bản công ty hiện nay được sử dụng phổ biến trong quá trình thermochemolysis, một kỹ thuật phân tích liên quan đến việc nhiệt phân và dẫn xuất hóa học của chất phân tích.
TMAH thuộc nhóm dung dịch hydroxide amoni tứ chức (QAH) và thường được sử dụng để etsilic không đồng hướng silic. Tốc độ etsilic (100) silic thường tăng với nhiệt độ và nồng độ TMAH tăng. Bề mặt silic etsilic (100) bị nhám giảm với nồng độ TMAH tăng, và có thể đạt được bề mặt mịn với dung dịch TMAH 20%. Tốc độ etsilic thường nằm trong khoảng 0,1-1 micromet mỗi phút.
Nguồn: https://viglaceradaiphuc.com
Danh mục: Biệt thự
